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Rivelatori infrarossi non raffreddati
Persona di contatto :
Wendy Wang
Numero di telefono :
+86 27 50185150
Materiale infrarosso non raffreddato del VOx del rivelatore 400x300/17μm di matrice del piano focale
| Tipo: | Microbolometro |
|---|---|
| Risoluzione: | 400x300 |
| Gamma spettrale: | 8~14μm |
Detettore IR miniato non raffreddato 256x192 / 12μm per elettronica di consumo
| Tipo: | Microbolometro |
|---|---|
| materiale: | Ossido di vanadio |
| Risoluzione: | 256x192 |
VOx non raffreddato Microbolometer dei rivelatori infrarossi termici di 400x300 12μm per termografia
| Misurare: | 18x16x2,8 mm |
|---|---|
| Peso: | <1,5 g |
| Risoluzione: | 400x300 |
Tecnologia matura non raffreddata del rivelatore 640x512 12μm del piano focale del VOx
| Risoluzione: | 640x512/12μm |
|---|---|
| NET: | <30KK |
| Gamma spettrale: | 8~14μm |
VOx non raffreddato 800x600/17μm del rivelatore infrarosso termico di Wave lungo
| Tipo: | Pacchetto in metallo |
|---|---|
| materiale: | Ossido di vanadio |
| Risoluzione: | 800x600/17μm |
Detettore infrarosso non raffreddato da 800 x 600 17 μm per l'imaging termico e la termografia
| Risoluzione: | 800x600/17μm |
|---|---|
| NET: | <30KK |
| Misurare: | 35x25x7,4 mm |
Rivelatori infrarossi non raffreddati 256x192 12μm di Microbolometer del Vox per le macchine fotografiche termiche
| Risoluzione: | 256x192/12μm |
|---|---|
| Frequenza fotogrammi: | 50/60Hz |
| Misurare: | 23x13x7,32 mm |
sensore infrarosso non raffreddato di immagine all'infrarosso del rivelatore LWIR di 640x512 12μm
| Risoluzione: | 640x512/12μm |
|---|---|
| NET: | ＜40mK |
| Gamma spettrale: | 8~14μm |
Matrice leggera Microbolometer del piano focale del sensore 640x512 12μm di registrazione di immagini termiche di LWIR
| Pacchetto: | incapsulamento a livello di wafer |
|---|---|
| Misurare: | 18x16x2,8 mm |
| Peso: | <1,5 g |
Rivelatore non raffreddato di alta risoluzione 640x512 12μm di FPA IR per visione notturna termica
| Risoluzione: | 640x512 |
|---|---|
| Dimensione pixel: | 12μm |
| Pacchetto: | incapsulamento a livello di wafer |